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磁控溅射真空镀膜机运行原理和特点

2020-07-31

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       对于真空设备行业了解不深的朋友,大多数都不太清楚磁控溅射真空镀膜机在运行的过程中,应该注意和具备哪些事项,包括它的运行环境要求标准和运营原理,下面汇成真空小编为大家详细的介绍一下,让大家对磁控溅射真空镀膜机能够有一个全新的认识。


磁控溅射真空镀膜机


       其实各种镀膜技术都是需要一个特定的真空环境,以保证制膜材料在加热蒸发或溅射过程中所形成蒸气分子的运动,能不致受到大气中大量气体分子的碰撞、阻挡和干扰,并消除大气中杂质的不良影响。
并且,各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子,以便把蒸发制膜的材料转化成气体。由于源或靶的不断改进,大大扩大了制膜材料的选用范围,无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质,都可以蒸镀各种金属膜和介质膜,而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。
       接着蒸发或溅射出来的制膜材料,在与待镀的工件生成薄膜的过程中,在一般的磁控溅射条件下。对其膜厚可进行比较精确的测量和控制,磁控溅射真空镀膜机,真空镀膜技术的特点,真空镀膜技术主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。除化学气相沉积法外,其他几种方法均具有一些共同特点:比如,各种镀膜技术都需要一个特定的真空环境,光学镀膜随处可见。以保证制膜材料在加热蒸发或溅射过程中所形成蒸气分子的运动,不致受到大气中大量气体分子的碰撞、阻挡和干扰,并消除大气中杂质的不良影响。各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子,以便把蒸发制膜的材料转化成气体。由于源或靶的不断改进,大大扩大了制膜材料的选用范围,无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质,都可以蒸镀各种金属膜和介质膜,而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。蒸发或溅射出来的制膜材料,在与待镀的工件生成薄膜的过程中,对其膜厚可进行比较精确的测量和控制,从而保证膜厚的均匀性。每种薄膜都可以通过微调阀精确地控制镀膜室中残余气体的成分和质量分数,从而防止蒸镀材料的氧化,把氧的质量分数降低到小的程度,还可以充入惰性气体等,这对于湿式镀膜而言是无法实现的。由于磁控溅射真空镀膜的不断改进,镀膜过程可以实现连续化,从而大大地提高产品的产量,而且在生产过程中对环境无污染。
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